NiCr 80:20 massiprotsenti pihustusobjektid
Nikkel-kroomi pihustusobjektid (NiCr 80:20 massiprotsenti) NiCr (80:20 massiprotsenti), Ni80Cr20, NiCr8020, NiCr80/20 massiprotsenti
Puhtus: 99,5 protsenti (2N5)
Mõõtmed (mm): paksus 16 (pluss /-0,1) x laius 170 (pluss /-0,5) x pikkus 2050/2300 mm, muu suurus vastavalt kohandatud
Resistance (μΩ.m):>140
Lõplik tugevus (suurem või võrdne MPa): 440
Pikendus (protsent või suurem): 20 protsenti
Kuju: plaat, toru
Relative Density:>=99,7 protsenti
Tehnika: sepistamine ja mehaaniline töötlemine
Pind: metallist värvi ja särav pind Ra1.6
Tasasus: 0.15-0,2 mm
Toote tutvustus
NiCr 80:20 massiprotsenti pihustusobjektid koosnevad 80 protsendist niklist ja 20 protsendist kroomist. See on teatud tüüpi sihtmärk, mida kasutatakse füüsikalise aurustamise-sadestamise (PVD) protsessides, eriti pihustustehnikas. Seda kasutatakse tavaliselt mitmesugustes rakendustes, sealhulgas õhukese kilega takistite, elektrooniliste kontaktide ja korrosioonikindlate katete tootmisel. Need on saadaval erinevatelt tootjatelt ja tarnijatelt, kes on spetsialiseerunud pihustussihtmärkidele ja nendega seotud materjalidele.
Üldine teave
Materjal: NiCr (80:20 massiprotsenti), Ni80Cr20, NiCr8020, NiCr80/20
Puhtus: 99,5 protsenti (2N5) - 99,95 protsenti (3N5)
Mõõdud (mm): paksus 16 (pluss /-0,1) x laius 170 (pluss /-0,5) x pikkus 2050/2300 mm ilma splaissimiseta või vastavalt nõudlusele
Nikkel-kroomi pihustamise sihtmärkide rakendamine (NiCr 80:20 massiprotsendi sihtmärgid)
1. arhitektuurne klaas, klaasi kasutav auto, graafiline kuvaväli
2. elektroonika- ja pooljuhtide väli
3. kaunistus ja hallituse väli
4. optika kattematerjalid
| Sihtmärk | Tootmine Tehnika | Puhtus | Tihedus | Tera suurus | Tootmise spetsifikatsioon | Rakendus |
Tootmine Tehnika | Sulav sepistamine | 2N5-3N5 | 8.4 | >100μm | Tasapinnaline Rotary Vastavalt kliendi joonisele | Kilekate klaas Widow lääts Plast kaunistus |
NiCr parameeter (80:20 massiprotsenti)
Nimi | Peamine kemikaal komponendi massiprotsent | Komponent max.use temperatuuri | Sulamine Punkt | Vastupidavus μΩ·m,20 | Laiendus määra protsentides | Konkreetne Kuumutage J/g. | Kuumus Juhtimine Koefitsient KJ/Mh | Lineaarne laienemine koefitsient aX10-6/ | Mikrostruktuur | Magnetiline | ||
Ni pluss Kaas | Kr | Fe | ||||||||||
Ni80 Cr20 | Bal | 20-23 | Väiksem või võrdne 1.0 | 1200 | 1400 | 1.09±0.05 | 20 | 0.440 | 60.3 | 18.0 | Austeniitne | Mittemagnetiline |
Muud metallid Pritsivad sihtmärgid
Magnetroni pihustussihtmärk,/pöörlev sihtmärk (toru sihtmärk) | |||||
Üksus | puhtus | Tihedus | kuju | Mõõtmed (mm) | Rakendus |
TiAl sihtmärk | 2N8- 4N | 3.6-4.2 | Toru, ketas, plaat | OD70 x T 7 x L Muu vastavalt kohandatud | Lameekraani sihtmärkide jaoks mantli klaasitööstus (sh arhitektuuriklaas, autoklaas, optiline klaas) sihtmärgid, õhukese kilega päikeseenergiatööstuse eesmärgid, Pinnaehitus (dekoratiivne ja tööriistad) sihtmärkidega, sihtmärkidega kaetud auto esilatern |
Cr sihtmärk | 2N7-4N | 7.19 | Toru, ketas, plaat | OD80 X T8 XL Muu vastavalt kohandatud | |
Ti sihtmärk | 2N8-4N | 4.15 | Toru, ketas, plaat | OD127 x ID105 x L OD219 x ID194 x L OD300 x ID155 x L Muu vastavalt kohandatud | |
Zr Target | 2N5-4N | 6.5 | Toru, ketas, plaat | Muu vastavalt kohandatud | |
Al sihtmärk | 4N-5N | 2.8 | Toru, ketas, plaat | ||
Ni sihtmärk | 3N-4N | 8.9 | Toru, ketas, plaat | ||
Cu sihtmärk (vask ) | 3N-4N5 | 8.92 | Toru, ketas, plaat | ||
Cu sihtmärk (messing) | 3N-4N5 | 8.92 | Toru, ketas, plaat | ||
Ta sihtmärk | 3N5-4N | 16.68 | Toru, ketas, plaat | OD146xID136x299,67 (3 tk) | |
Sissejuhatus
Pinnakattetööstuses kasutatakse nikkel-kroomi pihustusobjekte, kahekomponentsete sulamite sihtmärke ja -kilesid laialdaselt pinda tugevdavates kiledes, nagu kulumiskindlus, kulumiskindlus, kuumakindlus ja korrosioonikindlus, aga ka madala emissiooniga (madala E) klaas, mikroelektroonika, magnetiline Kõrgtehnoloogilistes tööstusharudes, nagu salvestus-, pooljuhtide ja õhukese kile vastupidavus, mõjutab kuumtöötlusprotsess oluliselt sulami faasistruktuuri ja mikrostruktuuri.
Ni-Cr sulamite mikrostruktuur ja mikrodomeeni koostis on kuumtöötlusprotsessi suhtes tundlikud. Vahemikus 1000-1200 kraadi Celsiuse järgi muutub Ni aatomisisaldus BCC faasis 5 protsendilt 30 protsendini. Suhteliselt ühtlase struktuuri ja koostisega kvaliteetsete Ni-Cr sulami sihtmärkide saamiseks on pakutud välja sobiv homogeniseerimise kuumtöötlusprotsess. Kui Ni-elemendi aatomisisaldus on 20 protsenti -70 protsenti, on homogeniseerimise kuumtöötlus sobiv vahemikus 1200-1300 Celsiuse kraadi ja homogeniseerimise lõõmutamise aeg varieerub sõltuvalt lõõmutamistemperatuuri valikust ja varieerub vahemik 2-24H. Juhusliku kaskaadi kokkupõrke teooria ja Monte Carlo meetodi põhjal näitavad ioonkiirega pihustamises langevate ioonide ja Ni-Cr sulami tahke aine vahelise interaktsiooni simulatsioonitulemused, et Ni ja Cr aatomi pinnaenergia on suhteliselt lähedased. , Ni-Cr sulamist sihtmärgi pihustustoote koostis ei erine oluliselt sihtmärgi koostisest, mis on kasulik sihtmärgi koostise valikul ja kile koostise kontrollimisel.
Homogeniseerimise lõõmutamise aeg varieerub sõltuvalt lõõmutamistemperatuurist ja varieerub vahemikus 2-24h. Üldiselt on struktuuri ja koostise ühtsuse tagamise eelduseks, et mida kõrgem on kuumtöötlemise temperatuur, seda lühem on vajalik kuumtöötlusaeg; teisalt, et tagada struktuuri ja koostise ühtlus Vältimaks tera liigset kasvu, ei tohiks tegeliku kuumtöötlemise lõppfaasis vananemistemperatuuri valida liiga kõrgeks. Nikroomkilel on kõrge takistus ja madal temperatuuritakistustegur. Sellel on kõrge tundlikkuse koefitsient ja väike temperatuurisõltuvus, seetõttu kasutatakse seda sageli õhukese kile takistuse tensomõõturite valmistamisel.
Kuum tags: pritsiv sihtmärk
Ju gjithashtu mund të pëlqeni
Küsi pakkumist
